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  真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面,形成一层致密的薄膜。

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  公司拥有电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD等一系列镀膜技术,蒸镀材料涵盖金、铂、钨、镍、银、铜、铝、锡、铬、钛、钽等全部常用金属,非晶硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化铪等非金属材料,镀膜具有均匀性好,膜层致密,均匀性好等特点。

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