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  刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。
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  公司拥有离子束刻蚀、深硅刻蚀、反应离子刻蚀、聚焦离子束等刻蚀技术,满足对硅、氧化硅、氮化硅、金属、石英等材料的刻蚀。

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